真空室內(nèi)腔尺寸：φ1350mm*H1500mm

真空系統(tǒng)：分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵

晶控：MXC-3B +六探頭

蒸發(fā)源：單槍/雙槍+旋轉(zhuǎn)定阻蒸

空載極限真空：8.0x10^-5Pa

空載恢復真空：2x10^-3Pa ≤15min

加熱溫度：最高300℃

選件：RF離子源  /霍爾源、POLYCOLD、固定阻蒸

電源：三相   380V    50HZ

設(shè)備重量：約4T

真空鍍膜機的內(nèi)腔尺寸、泵組配置等可根據(jù)客戶的鍍膜工藝量身定制