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產品詳情
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YZ1100EBI 光學真空鍍膜機 |
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真空室內腔尺寸：φ1100mm*H1300mm |
真空系統(tǒng)：分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵 |
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晶控：MXC-3B +六探頭 |
蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸 |
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空載極限真空：8.0x10-5Pa |
空載恢復真空：2x10-3Pa ≤15min |
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加熱溫度：最高300℃ |
選件：RF離子源 /霍爾源、POLYCOLD |
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電源：三相 380V 50HZ |
設備重量：約3T |
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真空鍍膜機的內腔尺寸、泵組配置等可根據客戶的鍍膜工藝量身定制 |
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產品詳情
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YZ1100EBI 光學真空鍍膜機 |
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真空室內腔尺寸：φ1100mm*H1300mm |
真空系統(tǒng)：分子泵+雙極旋片泵+羅茨泵 |
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晶控：MXC-3B +六探頭 |
蒸發(fā)源：雙槍+固定阻蒸 |
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空載極限真空：8.0x10-5Pa |
空載恢復真空：2x10-3Pa ≤15min |
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加熱溫度：最高300℃ |
選件：RF離子源 /霍爾源、POLYCOLD |
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電源：三相 380V 50HZ |
設備重量：約3T |
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真空鍍膜機的內腔尺寸、泵組配置等可根據客戶的鍍膜工藝量身定制 |
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